超臨界細微粒子制備裝置

描述：CXG-2型超臨界細微粒子制備裝置該設備在RESS工藝基礎上，適當放寬超臨界環(huán)境的調(diào)整范圍，可滿足不同物料粒子的制備，結(jié)品虢上蓋設置三通道，可升級為SEDS工藝。

更新時間：2024-12-17

產(chǎn)品型號：CXG-2型

所在城市：南通市

廠商性質(zhì)：生產(chǎn)廠家

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CXG-2型超臨界細微粒子制備裝置

產(chǎn)品介紹

該設備在RESS工藝基礎上，適當放寬超臨界環(huán)境的調(diào)整范圍，可滿足不同物料粒子的制備，結(jié)品虢上蓋設置三通道，可升級為SEDS工藝。

主要性能指標

型號:CXG-2

工作壓力:≤33MPa
工作溫度:室溫~150°C
結(jié)晶釜:500ml 316材質(zhì)

分離釜:200ml SUS304或316L

可配備噴咀:50um.100um.200um.250um.500um
CO2柱塞泵:8L/h ，40MPa雙桂塞變頻調(diào)速，泵頭帶冷卻
藥劑泵:0.01~9.99 ml/min，40MPa

制冷水浴:2500kcal/h溫控范圍:-5°℃-·5℃風冷
恒溫箱:室溫-150℃中空可視玻璃,油流靜音風機
co2儲罐:2L/16 MPa

電源:AC380V 50Hz三相五線8kw

CXG-2型超臨界細微粒子制備裝置

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